法律制度的不足、產(chǎn)業(yè)發(fā)展與國際制度接軌需求等多因素發(fā)酵，促成專利法第四次修改中新增對“局部外觀設(shè)計”的保護。
01、局部外觀設(shè)計概述
2021年6月1日正式實施的《中華人民共和國專利法(2020年修正)》(以下簡稱《專利法》)將第2條第4款修改為“外觀設(shè)計，是指對產(chǎn)品的整體或者局部的形狀、圖案或者其結(jié)合以及色彩與形狀、圖案的結(jié)合所作出的富有美感并適于工業(yè)應(yīng)用的新設(shè)計”，即從法條上明確了我國專利保護的客體包括產(chǎn)品的局部外觀設(shè)計，意味著我國正式以法律形式明確了局部外觀設(shè)計保護制度。
在此之前，外觀設(shè)計定義是2008年修改專利法時新增,外觀設(shè)計的定義并沒有限定其是產(chǎn)品的整體外觀設(shè)計還是局部外觀設(shè)計。但在實踐中，我國并不承認(rèn)和保護局部外觀設(shè)計。這體現(xiàn)在以下三個方面：第一，《專利審查指南2010》(2019年修訂)明確規(guī)定“產(chǎn)品的不能分割或者不能單獨出售且不能單獨使用的局部設(shè)計”屬于“不授予外觀設(shè)計專利權(quán)的情形”;第二，我國也不承認(rèn)以局部外觀專利申請為基礎(chǔ)的外國優(yōu)先權(quán);第三，在侵權(quán)判定中，均將產(chǎn)品整體外觀作為觀察對象，遵從“整體對比、綜合判斷”的原則，而不支持將局部獨立出來單獨判斷。
從唯物辯證法的角度看，整體與局部本身就是辯證統(tǒng)一的一對關(guān)系，兩者既相互區(qū)別又相互聯(lián)系。首先，整體和局部相互影響，在一定條件下局部關(guān)鍵部分設(shè)計會對整體設(shè)計起到?jīng)Q定作用，例如把手的設(shè)計可能對于水杯整體美觀起到關(guān)鍵作用。其次，在一定條件下，兩者也可以相關(guān)轉(zhuǎn)化，例如零部件的外觀設(shè)計既可以作為整體產(chǎn)品的局部設(shè)計，也可以視為獨立的整體外觀設(shè)計。從產(chǎn)業(yè)發(fā)展角度看，產(chǎn)品設(shè)計日趨精細(xì)化，部分領(lǐng)域的產(chǎn)品發(fā)展因較為成熟而逐步固定化，故其整體外觀設(shè)計的改進可能愈發(fā)減少，設(shè)計者便著眼于對其局部的改進和創(chuàng)新。因此，將局部外觀設(shè)計排除在外觀設(shè)計專利保護的范圍外顯然是不合理的，建立局部外觀設(shè)計制度勢在必行。事實上，世界主要知識產(chǎn)權(quán)國家和地區(qū)例如美國、日本、歐盟和韓國等都在我國之前確立了局部外觀設(shè)計制度。
02、局部外觀設(shè)計的發(fā)展歷程
我國局部外觀設(shè)計制度的建立并不是一蹴而就的，而是在吸收了國際先行實踐和法律經(jīng)驗基礎(chǔ)上，并結(jié)合我國專利行政部門及司法部門在實踐中對局部外觀設(shè)計保護的長期探索逐步發(fā)展起來的。
雖然我國之前不授予局部外觀設(shè)計以專利權(quán)，但為了彌補整體保護的各種不足，我國專利體系仍然提供了另外一種路徑對局部外觀設(shè)計給予一定程度的保護。2008年，《專利法》進行第三次修改中對外觀設(shè)計申請的簡要說明賦予了寫明設(shè)計要點的重要功能。2010年，修改的《中華人民共和國專利法實施細(xì)則》(以下簡稱《專利法實施細(xì)則》)明確規(guī)定設(shè)計要點可以包括產(chǎn)品中區(qū)別于現(xiàn)有產(chǎn)品的部分，允許申請人在簡要說明中指出其創(chuàng)意的局部設(shè)計。2014年，修改的《專利審查指南(2010)》將圖形用戶界面(Graphical User Interface，以下簡稱“GUI”)納入到外觀設(shè)計專利保護的范圍。GUI設(shè)計可以不提交最終產(chǎn)品視圖，而只提交包含該GUI的顯示面板的正投影視圖，這在一定程度上可視為局部外觀設(shè)計，為我國建立局部外觀設(shè)計制度進行了初步探索。2015年，《專利法》修改草案送審稿說明中首次明確指出我國外觀設(shè)計的專利保護客體應(yīng)該增加局部外觀設(shè)計。除此之外，在實際的審查實踐以及司法實踐中，也常常對局部外觀設(shè)計專利申請/專利網(wǎng)開一面，通過簡單檢索不難發(fā)現(xiàn)一些被授權(quán)的局部外觀設(shè)計以及與之相關(guān)的司法判例。
以上內(nèi)容選自《知識產(chǎn)權(quán)法律制度研究》2023年160-169頁：《局部外觀設(shè)計專利制度——基于《專利法》第四次修改的解讀》
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