“假從屬真獨立”權(quán)利要求如何進行司法認定?日前，北京知識產(chǎn)權(quán)法院審結(jié)了一起專利權(quán)無效行政糾紛的案件，和小編一起來看看吧!
案情簡介
被訴決定系被告國家知識產(chǎn)權(quán)局針對原告K公司就第三人張某擁有的專利號為201310390582.4、名稱為“磁吸式直通組合型地漏”的發(fā)明專利(簡稱涉案專利)提出的無效宣告請求而作出。國家知識產(chǎn)權(quán)局在被訴決定中認定，涉案專利符合《中華人民共和國專利法》(簡稱專利法)第二十六條第四款、第二十二條第二款及第三款，以及《中華人民共和國專利法實施細則》第二十條第二款等規(guī)定，故維持涉案專利權(quán)有效。
磁吸式直通組合型地漏圖
原告K公司不服被訴決定，向北京知識產(chǎn)權(quán)法院提起訴訟稱，權(quán)利要求5引用權(quán)利要求1導致保護范圍不清楚，且權(quán)利要求5不具備創(chuàng)造性，違反了專利法第二十六條第四款、第二十二條第三款的規(guī)定，因此請求法院撤銷被訴決定并判令被告重新作出審查決定。
其中關于保護范圍不清楚的問題，原告認為：
(1)被訴決定根據(jù)說明書附圖10、11的實施例與附圖1、2對應的實施例為并列關系，從而得出權(quán)利要求5與權(quán)利要求1是并列關系，該種確定方法違反法律規(guī)定。權(quán)利要求5的撰寫方式是從屬權(quán)利要求，因此應當按照權(quán)利要求1的從屬權(quán)利要求來確定權(quán)利要求5技術(shù)方案包含的技術(shù)特征。
(2)權(quán)利要求5進一步限定的技術(shù)特征不僅與權(quán)利要求1中關于內(nèi)外磁條磁極分布和相對位置的技術(shù)特征矛盾，而且從形式上看還存在權(quán)利要求1的技術(shù)方案在權(quán)利要求5中被重復保護的問題，因此不符合“清楚”的要求。
被告國家知識產(chǎn)權(quán)局不認可原告的主張，認為被訴決定認定事實清楚，適用法律法規(guī)正確，審理程序合法，審查結(jié)論正確，原告的訴訟理由不能成立，請求駁回原告的訴訟請求。
第三人張某未陳述意見。
調(diào)查與處理
涉案專利系專利號為201310390582.4、名稱為“磁吸式直通組合型地漏”的發(fā)明專利，申請日為2013年9月2日，優(yōu)先權(quán)日為2013年8月19日，授權(quán)公告日為2014年10月15日，專利權(quán)人為張某。
涉案專利授權(quán)公告的權(quán)利要求1、5內(nèi)容如下：
“1.一種磁吸式直通組合型地漏，包括地漏本體和設置在地漏本體下出口的帶導桿的可上下移動的密封蓋，所述地漏本體中間通過多根連接條設置一安裝柱，其特征在于：所述安裝柱中設有安裝孔，安裝孔的孔壁上設有至少一根外磁條，各外磁條相對安裝孔中心呈圓周分布;所述密封蓋的導桿末端伸入到安裝孔中，導桿上安裝有至少一根內(nèi)磁條，各內(nèi)磁條在所述外磁條的上推磁力作用下產(chǎn)生上移趨勢而使導桿上的密封蓋封住地漏本體的下出口;所述外磁條的磁極分布在上下兩端，內(nèi)磁條的磁極也分布在上下兩端，且內(nèi)外磁條同端的磁極相異;不排水時內(nèi)外磁條在兩端磁極相異相吸的作用下呈并列狀態(tài)或小錯位狀態(tài)而使密封蓋封住地漏本體的下出口;在排水時所述密封蓋受水壓作用下移打開，帶動內(nèi)磁條進一步下移克服兩端磁極吸力，但內(nèi)磁條相對外磁條的最大錯位距離不會超過外磁條的整個長度。”
“5.如權(quán)利要求1所述的一種磁吸式直通組合型地漏，其特征在于：或者所述外磁條的磁極分布在內(nèi)外兩側(cè)，內(nèi)磁條的磁極分布在上下兩端，且外磁條的內(nèi)端磁極與內(nèi)磁條的上端磁極相同，外磁條的內(nèi)端磁極與內(nèi)磁條的下端磁極相異;所述內(nèi)磁條頂端隨密封蓋導桿下移到極限位置時其高度不低于外磁條的頂端高度。”
針對涉案專利，K公司于2020年6月15日向國家知識產(chǎn)權(quán)局提出無效宣告請求。
經(jīng)形式審查合格，國家知識產(chǎn)權(quán)局于2020年6月30日依法受理了上述無效宣告請求。2021年1月15日，國家知識產(chǎn)權(quán)局作出被訴決定，維持本專利權(quán)有效。
北京知識產(chǎn)權(quán)法院于2023年3月30日作出(2021)京73行初4933號行政判決，認定原告關于權(quán)利要求5保護范圍不清楚以及不具備創(chuàng)造性的理由均不能成立，故判決駁回原告K公司的訴訟請求。宣判后，原告K公司未提出上訴，一審判決已發(fā)生法律效力。
法律分析
專利法第二十六條第四款規(guī)定，權(quán)利要求書應當以說明書為依據(jù)，清楚、簡要地限定要求專利保護的范圍。
本案中，原告主張權(quán)利要求5引用權(quán)利要求1導致保護范圍不清楚，理由在于：
第一，被訴決定根據(jù)說明書附圖10、11的實施例與附圖1、2對應的實施例為并列關系，從而得出權(quán)利要求5與權(quán)利要求1是并列關系，該種確定方法違反法律規(guī)定。權(quán)利要求5的撰寫方式是從屬權(quán)利要求，因此應當按照權(quán)利要求1的從屬權(quán)利要求來確定權(quán)利要求5技術(shù)方案包含的技術(shù)特征。
第二，權(quán)利要求5進一步限定的技術(shù)特征不僅與權(quán)利要求1中關于內(nèi)外磁條磁極分布和相對位置的技術(shù)特征矛盾，而且從形式上看還存在權(quán)利要求1的技術(shù)方案在權(quán)利要求5中被重復保護的問題，因此不符合“清楚”的要求。
法院認為，權(quán)利要求1為獨立權(quán)利要求，其技術(shù)特征分為兩部分，第一部分“包括地漏本體……封住地漏本體的下出口”限定了磁吸式直通組合型地漏包括地漏本體、密封蓋和內(nèi)外磁條以及地漏本體、密封蓋和內(nèi)外磁條的結(jié)構(gòu)和相互位置關系，第二部分“所述外磁條的磁極分布在上下兩端……不會超過外磁條的整個長度”限定了內(nèi)外磁條的磁極分布以及相對位置設置。
權(quán)利要求5引用權(quán)利要求1.“或者”之后的技術(shù)特征“所述外磁條的磁極分布在內(nèi)外兩側(cè)……不低于外磁條的頂端高度”限定了不同于權(quán)利要求1的內(nèi)外磁條的磁極分布以及相對位置設置。本領域普通技術(shù)人員根據(jù)權(quán)利要求書的記載內(nèi)容，可以直接地、毫無疑義地確定，權(quán)利要求5“或者”之后的技術(shù)特征與權(quán)利要求1第二部分的技術(shù)特征應是并列關系，即權(quán)利要求5要求保護的技術(shù)方案實質(zhì)上包括權(quán)利要求1的第一部分技術(shù)特征“包括地漏本體……封住地漏本體的下出口”以及權(quán)利要求5的技術(shù)特征“所述外磁條的磁極分布在內(nèi)外兩側(cè)……不低于外磁條的頂端高度”兩部分。
因此，權(quán)利要求5雖然在撰寫形式上引用權(quán)利要求1.但其實際上是與權(quán)利要求1并列的獨立權(quán)利要求，其所限定的保護范圍是清楚的。而且該種撰寫方式亦符合法律規(guī)定，并不能僅僅基于撰寫形式就判定權(quán)利要求5為從屬權(quán)利要求。
此外，本領域普通技術(shù)人員在閱讀本專利說明書以后也能夠清楚，權(quán)利要求1的技術(shù)方案對應于說明書附圖1和2的實施例，權(quán)利要求5的技術(shù)方案對應于說明書附圖10和11的實施例。綜上，原告關于權(quán)利要求5引用權(quán)利要求1導致保護范圍不清楚，違反專利法第二十六條第四款規(guī)定的理由均不能成立，法院不予支持。
法官提示
關于從屬權(quán)利要求，專利法實施細則第二十條第三款規(guī)定：“從屬權(quán)利要求應當用附加的技術(shù)特征，對引用的權(quán)利要求作進一步限定。”根據(jù)上述規(guī)定，如果一項權(quán)利要求包含了所引用的權(quán)利要求中的所有技術(shù)特征，且對該引用的權(quán)利要求的技術(shù)方案作了進一步的限定，則該權(quán)利要求為從屬權(quán)利要求。由于從屬權(quán)利要求用附加的技術(shù)特征對所引用的權(quán)利要求作了進一步的限定，所以其保護范圍落在其所引用的權(quán)利要求的保護范圍之內(nèi)。
通常情況下，對于采用引用關系方式撰寫的權(quán)利要求，一般應當推定其為從屬權(quán)利要求，但同時應當注意到，在某些情況下也存在例外情形，即“假從屬真獨立”的權(quán)利要求(形式上為從屬權(quán)利要求而實質(zhì)上是獨立權(quán)利要求)。
對此，《專利審查指南》第二部分第二章3.1.2中規(guī)定：“在某些情況下，形式上的從屬權(quán)利要求(即其包含有從屬權(quán)利要求的引用部分)，實質(zhì)上不一定是從屬權(quán)利要求。例如，獨立權(quán)利要求1為：‘包括特征X的機床’。在后的另一項權(quán)利要求為：‘根據(jù)權(quán)利要求1所述的機床，其特征在于用特征Y代替特征X’。在這種情況下，后一權(quán)利要求也是獨立權(quán)利要求。審查員不得僅從撰寫的形式上判定在后的權(quán)利要求為從屬權(quán)利要求。”
第二部分第六章2.2.2.3中也規(guī)定：“應當注意，在某些情況下，形式上的從屬權(quán)利要求，實際上是獨立權(quán)利要求……例如，權(quán)利要求1是一種接觸器，具有特征A、B和C;權(quán)利要求2是一種權(quán)利要求1的接觸器，而其中特征C由特征D代替。由于權(quán)利要求2并沒有包括權(quán)利要求1的全部特征，因此不是從屬權(quán)利要求，而是獨立權(quán)利要求。”
本案中，權(quán)利要求5雖然在撰寫形式上引用權(quán)利要求1.但其實際上是與權(quán)利要求1并列的獨立權(quán)利要求，其所限定的保護范圍是清楚的。而且該種撰寫方式亦符合法律規(guī)定，并不能僅僅基于撰寫形式就判定權(quán)利要求5為從屬權(quán)利要求。
(原標題：假從屬真獨立?專利權(quán)利要求也許沒你想得那么簡單 | 以案釋法)
中企檢測認證網(wǎng)提供iso體系認證機構(gòu)查詢，檢驗檢測、認證認可、資質(zhì)資格、計量校準、知識產(chǎn)權(quán)貫標一站式行業(yè)企業(yè)服務平臺。中企檢測認證網(wǎng)為檢測行業(yè)相關檢驗、檢測、認證、計量、校準機構(gòu)，儀器設備、耗材、配件、試劑、標準品供應商，法規(guī)咨詢、標準服務、實驗室軟件提供商提供包括品牌宣傳、產(chǎn)品展示、技術(shù)交流、新品推薦等全方位推廣服務。這個問題就給大家解答到這里了，如還需要了解更多專業(yè)性問題可以撥打中企檢測認證網(wǎng)在線客服13550333441。為您提供全面檢測、認證、商標、專利、知識產(chǎn)權(quán)、版權(quán)法律法規(guī)知識資訊，包括商標注冊、食品檢測、第三方檢測機構(gòu)、網(wǎng)絡信息技術(shù)檢測、環(huán)境檢測、管理體系認證、服務體系認證、產(chǎn)品認證、版權(quán)登記、專利申請、知識產(chǎn)權(quán)、檢測法、認證標準等信息，中企檢測認證網(wǎng)為檢測認證商標專利從業(yè)者提供多種檢測、認證、知識產(chǎn)權(quán)、版權(quán)、商標、專利的轉(zhuǎn)讓代理查詢法律法規(guī)，咨詢輔導等知識。
本文內(nèi)容整合網(wǎng)站：百度百科、搜狗百科、360百科、知乎、市場監(jiān)督總局 、國家知識產(chǎn)權(quán)局
免責聲明：本文部分內(nèi)容根據(jù)網(wǎng)絡信息整理，文章版權(quán)歸原作者所有。向原作者致敬！發(fā)布旨在積善利他，如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題，請跟我們聯(lián)系刪除并致歉！
