證監(jiān)會(huì)發(fā)布的《科創(chuàng)屬性評(píng)價(jià)指引(試行)》[第21號(hào)公告]從發(fā)明專(zhuān)利的數(shù)量提出了硬性要求，但從企業(yè)實(shí)際科創(chuàng)板上市過(guò)程中的問(wèn)詢(xún)問(wèn)題來(lái)看，針對(duì)發(fā)明的專(zhuān)利質(zhì)量科創(chuàng)板上市企業(yè)至少需要從五個(gè)方面進(jìn)行關(guān)注，按照重要性排序依次是主營(yíng)業(yè)務(wù)收入相關(guān)性（必要條件）、技術(shù)水平先進(jìn)性（核心屬性）、權(quán)利穩(wěn)定性（基礎(chǔ)要素）、技術(shù)實(shí)施自由（發(fā)展支撐）、關(guān)鍵技術(shù)控制力（更高要求），如圖所示。

01、與形成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入相關(guān)

在科創(chuàng)屬性的要求上，不管是3項(xiàng)常規(guī)指標(biāo)的必要條件之一形成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入的發(fā)明專(zhuān)利 5 項(xiàng)以上，還是5項(xiàng)例外條款中的充分必要條件之一形成核心技術(shù)和主營(yíng)業(yè)務(wù)收入的發(fā)明專(zhuān)利(含國(guó)防專(zhuān)利)合計(jì)50 項(xiàng)以上，都明確指出這些專(zhuān)利要與形成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入直接相關(guān)。因此，科創(chuàng)板上市對(duì)于專(zhuān)利質(zhì)量的第一個(gè)要求就是與形成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入相關(guān)，簡(jiǎn)稱(chēng)相關(guān)性。

相關(guān)性意味著企業(yè)發(fā)明專(zhuān)利的保護(hù)內(nèi)容與形成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入的產(chǎn)品和核心技術(shù)相對(duì)應(yīng)，不僅僅是發(fā)明名稱(chēng)與企業(yè)的主營(yíng)產(chǎn)品和技術(shù)一致，還要發(fā)明保護(hù)的技術(shù)方案真正應(yīng)用到了主營(yíng)產(chǎn)品和技術(shù)中，產(chǎn)生了實(shí)際的技術(shù)效果，并帶來(lái)了主要營(yíng)收中的利潤(rùn)。如果企業(yè)所擁有的發(fā)明專(zhuān)利與主營(yíng)業(yè)務(wù)或核心技術(shù)非直接相關(guān)，或者雖直接相關(guān)但沒(méi)有形成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入那么將都不被認(rèn)可。

福建匯川物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)科技股份有限公司形成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入的發(fā)明專(zhuān)利共 11 項(xiàng)，3 項(xiàng)為自主研發(fā)，而8 項(xiàng)都為 2019 年 12 月受讓取得?？苿?chuàng)板審核中心第二輪問(wèn)詢(xún)意見(jiàn)要求發(fā)行人及保薦機(jī)構(gòu)結(jié)合高精度俯仰伺服控制云臺(tái)技術(shù)的開(kāi)發(fā)過(guò)程、形成時(shí)間、應(yīng)用于產(chǎn)品的時(shí)間、對(duì)應(yīng)專(zhuān)利名稱(chēng)、申請(qǐng)時(shí)間等，說(shuō)明外購(gòu)專(zhuān)利對(duì)應(yīng)的核心技術(shù)對(duì)公司產(chǎn)品功能的具體體現(xiàn)，與公司業(yè)務(wù)的相關(guān)性，是否符合《科創(chuàng)屬性評(píng)價(jià)指引(試行)》關(guān)于“形成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入的發(fā)明專(zhuān)利 5 項(xiàng)以上”的規(guī)定。最終，上交所發(fā)出了終止該公司首次公開(kāi)發(fā)行股票并在科創(chuàng)板上市審核的決定。

02、技術(shù)先進(jìn)性

科創(chuàng)板上市對(duì)專(zhuān)利的技術(shù)先進(jìn)性評(píng)價(jià)十分嚴(yán)謹(jǐn)甚至是“苛刻”，不僅要考慮該專(zhuān)利相對(duì)于行業(yè)同類(lèi)技術(shù)水平的技術(shù)優(yōu)勢(shì)、對(duì)本企業(yè)主營(yíng)業(yè)務(wù)直接做出的技術(shù)貢獻(xiàn)，還要結(jié)合技術(shù)是否為自主研發(fā)、是否具備核心研發(fā)團(tuán)隊(duì)等來(lái)考慮?？苿?chuàng)上市的評(píng)價(jià)更傾向于鼓勵(lì)自主研發(fā)取得的原創(chuàng)性知識(shí)產(chǎn)權(quán)，這源于科創(chuàng)板定位旨在借助資本市場(chǎng)扶持擁有關(guān)鍵核心技術(shù)、科技創(chuàng)新能力突出的科技創(chuàng)新企業(yè)發(fā)行上市。

企業(yè)應(yīng)當(dāng)跟蹤國(guó)內(nèi)外前沿和重點(diǎn)技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)，對(duì)本領(lǐng)域關(guān)鍵核心技術(shù)和主流技術(shù)進(jìn)行深入跟蹤研究，合理確定適合自身的技術(shù)創(chuàng)新方向，保障自身技術(shù)研發(fā)路線的先進(jìn)性、可行性和前瞻性。此外，還要積極參與國(guó)家倡導(dǎo)和組織的關(guān)鍵共性技術(shù)開(kāi)發(fā)和研究項(xiàng)目，圍繞關(guān)鍵核心技術(shù)、共性技術(shù)進(jìn)行積累、儲(chǔ)備和戰(zhàn)略布局高質(zhì)量的發(fā)明專(zhuān)利。

03、權(quán)利穩(wěn)定性

專(zhuān)利的權(quán)利穩(wěn)定性對(duì)于實(shí)施該專(zhuān)利技術(shù)、利用該專(zhuān)利技術(shù)進(jìn)行維權(quán)至關(guān)重要。專(zhuān)利權(quán)的穩(wěn)定一方面要做好授權(quán)專(zhuān)利的維護(hù)，二是要重視技術(shù)交底書(shū)的撰寫(xiě)和審查意見(jiàn)的答復(fù)，保證授權(quán)后的專(zhuān)利文本不存在可能被無(wú)效的“瑕疵”。

企業(yè)在科創(chuàng)板上市過(guò)程中，經(jīng)常面臨競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的專(zhuān)利無(wú)效攻勢(shì)，如果自身專(zhuān)利的權(quán)利穩(wěn)定性不過(guò)硬，很容易被無(wú)效掉，不僅可能無(wú)法滿足發(fā)明專(zhuān)利數(shù)量要求，還可能會(huì)被認(rèn)為技術(shù)創(chuàng)新性不夠、無(wú)法支撐主營(yíng)業(yè)務(wù)等問(wèn)題而終止上市。

秦川物聯(lián)共申請(qǐng)了多達(dá) 700項(xiàng)專(zhuān)利，但其中僅有不到300項(xiàng)取得授權(quán)，授權(quán)率不到 40%。此外，還有大量專(zhuān)利申請(qǐng)被撤回、或被視為非正常專(zhuān)利申請(qǐng)、或被宣告無(wú)效，上交所因此對(duì)該企業(yè)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)質(zhì)量提出了質(zhì)疑，最終該企業(yè)折戟科創(chuàng)板。

北京天科合達(dá)半導(dǎo)體股份有限公司上市申請(qǐng)過(guò)程中，其3項(xiàng)發(fā)明專(zhuān)利因未按期繳納年費(fèi)而失效。這一情況引發(fā)了上交所對(duì)天科合達(dá)的持續(xù)經(jīng)營(yíng)能力、專(zhuān)利管理制度的健全程度以及是否存在其他類(lèi)似專(zhuān)利失效風(fēng)險(xiǎn)的質(zhì)疑。該公司最終于2020年10月15日申請(qǐng)撤回上市申請(qǐng)，終止了本次上市之路。

04、專(zhuān)利技術(shù)能夠自由實(shí)施

專(zhuān)利技術(shù)能否自由實(shí)施，通常要看技術(shù)研發(fā)屬于原創(chuàng)性還是改進(jìn)型，其專(zhuān)利來(lái)源是他人許可轉(zhuǎn)讓還是獨(dú)立取得，是否依賴(lài)他人。如果專(zhuān)利屬于獨(dú)立研發(fā)所得，不存在他人在先專(zhuān)利的限制，可以保證企業(yè)的獨(dú)立經(jīng)營(yíng)。如果專(zhuān)利技術(shù)是針對(duì)他人專(zhuān)利技術(shù)的改進(jìn)，需要判斷實(shí)施是否依賴(lài)于在先專(zhuān)利申請(qǐng)，如果依賴(lài)，是否獲得了他人專(zhuān)利的轉(zhuǎn)讓或者許可。如果專(zhuān)利技術(shù)為合作研發(fā)所得，專(zhuān)利的權(quán)屬是否清晰等。

如果存在早期的他人專(zhuān)利而且沒(méi)有獲得技術(shù)實(shí)施許可，則需要研發(fā)新的技術(shù)或者進(jìn)行技術(shù)規(guī)避設(shè)計(jì)，并對(duì)自身產(chǎn)品或技術(shù)與他人在先專(zhuān)利進(jìn)行通過(guò)技術(shù)特征比對(duì)等手段提前準(zhǔn)備不侵權(quán)的證據(jù)。

05、關(guān)鍵技術(shù)控制力

具有高質(zhì)量的知識(shí)產(chǎn)權(quán)和戰(zhàn)略性的知識(shí)產(chǎn)權(quán)布局，是企業(yè)擁有并控制關(guān)鍵核心技術(shù)的基礎(chǔ)，是企業(yè)核心競(jìng)爭(zhēng)力的保障。專(zhuān)利是對(duì)核心技術(shù)的法律保障，但通常一件專(zhuān)利很難對(duì)核心技術(shù)周?chē)?yán)的保護(hù)，甚至對(duì)具體產(chǎn)品的某一核心零部件都需要多件專(zhuān)利的立體保護(hù)。通常應(yīng)當(dāng)申請(qǐng)一件或者多件核心專(zhuān)利，然后申請(qǐng)多件外圍專(zhuān)利以建立專(zhuān)利“圍墻”，全面保護(hù)自己的核心技術(shù)和產(chǎn)品。

技術(shù)控制力好的專(zhuān)利組合被侵權(quán)時(shí)，很容易進(jìn)行侵權(quán)判定，能夠方便專(zhuān)利權(quán)人的搜集被侵權(quán)證據(jù)。技術(shù)控制力好的專(zhuān)利組合能夠有效保證產(chǎn)業(yè)鏈上下游的市場(chǎng)安全，促成緊密的產(chǎn)業(yè)鏈合作環(huán)境。

安集微電子主營(yíng)業(yè)務(wù)為關(guān)鍵半導(dǎo)體材料的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化，目前產(chǎn)品包括不同系列的化學(xué)機(jī)械拋光液和光刻膠去除劑，主要應(yīng)用于集成電路芯片制造和先進(jìn)封裝領(lǐng)域。

通過(guò)對(duì)安集微電子的專(zhuān)利申請(qǐng)趨勢(shì)分析可以看出，其在2005年就開(kāi)始申請(qǐng)專(zhuān)利，最早的申請(qǐng)至今維持年限已有14年;在拋光劑和光刻膠去除劑兩個(gè)技術(shù)領(lǐng)域，全球申請(qǐng)人排名依次為卡伯特微電子公司、安集微電子有限公司、三星電子、巴斯夫、海力士半導(dǎo)體公司，可見(jiàn)安集微電子在全球中的地位靠前。安集微電子有限公司在中國(guó)大陸的申請(qǐng)量也穩(wěn)居第一。每年都有20項(xiàng)左右的專(zhuān)利申請(qǐng)，持續(xù)研發(fā)能力較好;披露的190件專(zhuān)利均為發(fā)明專(zhuān)利，相對(duì)來(lái)講創(chuàng)新性較高，且主要為發(fā)行人自主持有，有少數(shù)控股公司的內(nèi)部轉(zhuǎn)讓?zhuān)灾餮邪l(fā)能力強(qiáng)。

安集微電子有超過(guò)三成的專(zhuān)利布局到我國(guó)臺(tái)灣地區(qū)以及美國(guó)、新加坡、韓國(guó)等國(guó)家和地區(qū)，這與其產(chǎn)品市場(chǎng)地、主營(yíng)業(yè)務(wù)收入等息息相關(guān)。

安集微電子專(zhuān)利被引證1-9次的專(zhuān)利項(xiàng)數(shù)63項(xiàng);被引證次數(shù)11-20次的專(zhuān)利項(xiàng)數(shù)為9項(xiàng);被引證次數(shù)20項(xiàng)以上的專(zhuān)利5項(xiàng)，表明專(zhuān)利整體質(zhì)量較高，得到了行業(yè)的廣泛認(rèn)可。

一般來(lái)說(shuō)，專(zhuān)利的權(quán)利要求數(shù)量越多表明專(zhuān)利的質(zhì)量和穩(wěn)定性越高。據(jù)統(tǒng)計(jì)，安集微電子的專(zhuān)利的平均權(quán)利要求數(shù)為10.8.超過(guò)了國(guó)內(nèi)專(zhuān)利申請(qǐng)額外收取費(fèi)用的限定值10.反映了專(zhuān)利的整體質(zhì)量較高。    安集微電子核心技術(shù)涉及化學(xué)機(jī)械拋光液的核心技術(shù)有五項(xiàng)：金屬表面氧化技術(shù)、金屬表面腐蝕抑制技術(shù)、拋光速率調(diào)節(jié)技術(shù)、拋光晶圓表面形貌控制技術(shù)和拋光后表面清洗技術(shù);涉及光刻膠的核心技術(shù)有兩項(xiàng)：光阻清洗中金屬防腐蝕技術(shù)和光刻膠殘留物去除技術(shù)。針對(duì)每項(xiàng)核心技術(shù)，安集微電子都布局了多項(xiàng)專(zhuān)利，技術(shù)控制力較強(qiáng)。

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